超高真空磁控溅射系统
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
Nexdep -
当前状态
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管理员
周伟涛,齐琨 13783699675 -
放置地点
龙湖校区2号组团7号楼C307-308
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
超高真空磁控溅射系统
资产编号
S2019000710
型号
Nexdep
规格
产地
加拿大
厂家
Angstrom Engineering Inc
所属品牌
Nexdep
出产日期
购买日期
2019-07-03
所属单位
纺织服装产业研究院
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
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联系电话
13783699675
联系邮箱
6275@zut.edu.cn
放置地点
龙湖校区2号组团7号楼C307-308
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
磁控溅射镀膜机由无油真空系统、溅射系统、气体压强控制装置、气体流量控制装置以及烘烤旋转系统等组成。可满足样品尺寸为φ50m，多片（4片以上）。同时镀制要求可满足三靶共溅射要求。
主要功能及特色
主要用于镀制多层金属及金属化合物薄膜。
可实现多层膜溅射、掺杂溅射以及镀膜时间可控制。
可实现多层膜溅射、掺杂溅射以及镀膜时间可控制。
样本检测注意事项
磁控溅射就是利用电磁场来控制真空腔体内气体异常辉光放电中离子、电子的运动轨迹以及分布状况的溅射镀膜工艺。可制备装饰薄膜、硬质薄膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分有效的薄膜沉积方法。
由于其成膜的均匀性、致密度、纯度、附着力都非常好，并可以在低温、低损伤的条件下实现高速沉积各种材料薄膜，已经成为当今真空镀膜中一种成熟技术与工业化的生产方式。在科学
由于其成膜的均匀性、致密度、纯度、附着力都非常好，并可以在低温、低损伤的条件下实现高速沉积各种材料薄膜，已经成为当今真空镀膜中一种成熟技术与工业化的生产方式。在科学
设备使用相关说明
提前一周预约. 遵守操作流程。
电话咨询，依据靶材及工艺要求商定收费标准。
电话咨询，依据靶材及工艺要求商定收费标准。
预约资源
检测项目
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